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EV GROUP在中国赢得关键客户订单提升其在晶圆级光

发布于:2019-02-17 19:12 编辑:admin 

  EVG将正在SEMICON China上闪现行业领先的晶圆级光学元件(WLO)创设管理计划

  EVG将于3月14日至16日正在上海新邦际博览核心举办的SEMICON China上闪现其晶圆级光学元件(WLO)创设管理计划。倘使心愿了然这些产物以及EVG全套光刻和晶圆键合管理计划的更众消息,接待到访3671号展位。

  NILPhotonics才智核心。EVG这些年来加入豪爽资源斥地纳米压印(NIL)手艺,动作一系列利用的高产量创设管理计划,此中包含发光二极管(LED)、微机电编制(MEMS)、光学、光伏以及其他器件。EVG的NILPhotonics才智核心运用EVG正在纳米压印(NIL)以及晶圆键合等范畴始末验证的工艺和筑设拿手助助客户实行新兴光子利用,大幅缩短产物上市期间。

  智内行机墟市陆续促进影响消费者平居糊口的浩瀚新手艺革新。中邦仍然成为了智内行机创设的领先区域,前十大智内行机创设商中有六家位于中邦,环球大片面智内行机都是正在中邦创设的。下一代智内行机将装备十几种传感器,此中包含3D传感摄像头、指纹传感器、虹膜扫描仪、激光二极管发射器、激光测距仪和生物传感器。晶圆级光学元件(WLO)也许让智内行机实行全新的利用,从校正数字摄像头的自愿对焦,到运用人脸识别晋升智内行机安好性,再到依靠三维筑模和成像加强供应加强实际/虚拟实际体验。

  用于母模版筑制的EVG770自愿UV-NIL步进器。母模板是指晶圆巨细的模板,周全漫衍以微透镜模具,一齐模具均以分步反复的方法通过简单透镜模板复制。从金属或玻璃创设的单镜头母模板起首,EVG供应涵盖了筑制母模板一齐须要步伐的工艺流程,具有无与伦比的透镜场所精度和极高的透镜形势可反复性,用于创设高端晶圆级摄像头模块。

  EV Group出售及客户声援施行总监Hermann Waltl示意:“动作智内行机创设的领先区域,中邦正正在肆意投资新创设举措,坐褥晶圆级光学元件(WLO)组件和模块,实行消费者央浼的全新利用。EVG具有近二十年的晶圆级创设体味,正正在运用咱们的工艺拿手和行业领先管理计划助助中邦晶圆级光学元件(WLO)创设商急迅进步晶圆级光学元件(WLO)组件和模块产量。无论是面临中邦客户,照样面临环球客户,咱们都听命咱们的‘3I’理念——创造(Invent)、革新(Innovate)、执行(Implement),这让咱们也许连续助助咱们的客户知足他们的新需乞降奇异央浼,依靠EVG的行业领先管理计划以最短的期间实行产物上市。”

  EV Group( EVG )是半导体、微机电编制( MEMS )、化合物半导体、功率器件和纳米手艺筑设创设领先的筑设和工艺管理计划供应商。苛重产物包含:晶圆键合、薄晶圆加工、光刻/纳米压印(NIL)和计量(衡量)筑设,同时也坐褥涂胶机、洗刷机和检讨筑设。 EV Group建树于 1980 年,为遍布全邦各地的环球客户和配合伙伴供应办事与声援。

  EV集团最前辈的压印光刻和键合对齐手艺为正在晶圆级创设光学元件供应了浩瀚上风。此处显示的是采用IQ Aligner自愿UV-NIL编制压印光刻手艺创设的透镜晶圆,以及由透镜晶圆和间隔晶圆构成的粘合微光学叠层。秒速赛车

  晶圆级光学元件(WLO)是一种具有本钱效益的手艺,运用好像于前辈半导体的创设工艺实行晶圆级光学元件小型化。EVG的晶圆级光学元件(WLO)管理计划包含:

  奥地利圣弗洛里安,2018年3月13日——微机电编制(MEMS)、纳米手艺以及半导体墟市晶圆键合和光刻筑设领先供应商EV Group(EVG)今日发布,博得了中邦晶圆级光学元件(WLO)器件创设商对其晶圆级光学元件(WLO)创设筑设的众个闭头订单。中邦仍然成为了晶圆级光学元件(WLO)组件和模块的苛重创设核心,这些组件和模块越来越众地被集成到智内行机、音频/虚拟实际(加强实际/虚拟实际)头戴筑设等搬动筑设中,实行了全新的消费者利用和功效。正在中邦最新博得的这些客户订单进一步巩固了EVG动作晶圆级光学元件(WLO)创设工艺管理计划开采者和墟市元首者的位子。

  EV GROUP正在中邦博得闭头客户订单,晋升其正在晶圆级光学元件创设管理计划方面的元首力

  用于UV微透镜成型的IQ Aligner自愿UV-NIL编制。软UV压印光刻手艺是一种高度并行手艺,用于创设晶圆级光学元件(WLO)编制的闭头因素——咸集物微透镜。EVG以复制于晶圆尺寸母模板的软管事模板为出发点,供应同化与单片微透镜成型工艺,可轻松用于众种组合材质的管事模板与微透镜材质。另外,EVG还供应前辈的微透镜成型工艺,包含一齐干系质料手艺。

  EVG40 NT自愿衡量编制。通过极高诀别率和精准度声援纵向与横向衡量,衡量学对付验证端庄的工艺样板、即时优化集成流程参数至闭紧要。正在晶圆级光学元件(WLO)创设流程中,EVG的衡量管理计划可用于闭头尺寸(CD)衡量和镜头堆叠校准,以及众种其他利用。